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용어 사전

후막 저항기

루테늄 산화물과 유리 프릿을 함유한 페이스트를 세라믹 기판에 스크린 인쇄하고 약 850 °C에서 소성해 만드는 저항기로, SMD 칩 저항기와 고전압 원통형에서 주류입니다.

정의

정의

후막은 사실상 모든 현대 SMD 칩 저항기(0201~2512), 5 W 미만 전류 션트, 다수의 HV 원통·칩 저항기 제조 기술입니다. 루테늄 이산화물 입자를 유리 매트릭스에 분산한 페이스트(때로 비스무트·이리듐 산화물)를 알루미나 기판에 스크린 인쇄해 소성(10~50 μm 층)하고 레이저 트리밍 후 보호 유리로 코팅합니다.

장점: 대량 생산 경제성, 치수 정확도, 자동 실장 적합성, 소형에서도 권선에 필적하는 펄스 에너지 능력. 값 1 mΩ~100 GΩ, 전력 1/32 W~35 W.

단점: 높은 TCR(통상 100~400 ppm/K, 고급 50), 권선보다 큰 잡음, 고전압에서 큰 VCR. HV 후막은 전용 페이스트로 VCR을 억제합니다. 1206 미만 SMD에서 기생 인덕턴스 < 10 nH로 권선보다 월등해 SMPS·디지털 회로의 표준이 됩니다.

샘플 요청

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표준 샘플은 합리적인 수량 내에서 무료로 제공됩니다(2~3영업일 내 발송). 맞춤 샘플은 2~4주 내 납품됩니다. 오른쪽 양식을 통해 다음을 알려주세요:

  • 회사 및 담당자 정보
  • 대상 부품 번호 또는 주요 사양(전력 / 저항 / 패키지)
  • 응용 시나리오 및 연간 예상 수량
  • 배송지 및 희망 납기
📧 이메일로도 직접 문의 가능합니다 [email protected] / 13650089870
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