Résistance à couche épaisse
Résistance fabriquée par sérigraphie d'une pâte à base d'oxyde de ruthénium et de fritte de verre sur substrat céramique, cuite à ~850 °C ; dominante en CMS et résistances HT cylindriques.
Définition
La couche épaisse est la technologie de fabrication derrière presque tous les CMS modernes (0201 – 2512), la plupart des shunts < 5 W, et nombre de résistances HT cylindriques et chips. Une pâte (oxyde de ruthénium en matrice de verre, parfois bismuth ou iridium) est sérigraphiée sur alumine, cuite (couche 10 – 50 μm), ajustée au laser, puis couverte de verre protecteur.
Avantages : économie de masse, contrôle dimensionnel, compatibilité pick-and-place, énergie d'impulsion équivalente bobinée en petit format. Valeurs 1 mΩ – 100 GΩ, puissances 1/32 W à 35 W.
Inconvénients : TCR plus élevé (100 – 400 ppm/K, premium 50), bruit > bobinée, VCR significatif en HT. Les films épais HT spécifiques résolvent le VCR. Inductance parasite < 10 nH en CMS < 1206, d'où son rôle standard en alimentation à découpage et numérique.
Termes liés
Construction bobinée
Construction où un fil d'alliage résistif (Ni-Cr, constantan, Manganin) est enroulé sur un noyau céramique ou fibre de verre, puis protégé par un revêtement ou un boîtier.
Coefficient de tension
Le coefficient de tension est la variation de résistance par volt appliqué, en ppm/V ; il décrit la non-linéarité d'un élément résistif sous champ électrique élevé.
VCR (coefficient de tension de la résistance)
VCR est l'abréviation normalisée du coefficient de tension de la résistance en ppm/V ; il s'agit du paramètre de linéarité dominant pour les résistances et diviseurs HT.
TCR (coefficient de température de la résistance)
Le TCR est la variation relative de résistance par degré Celsius, en ppm/K ou ppm/°C ; il indique la stabilité d'une résistance sur sa plage de fonctionnement.
Produits liés
Résistances haute tension
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