
薄膜金属化
采用真空溅射、蒸镀与光刻图形化工艺,在陶瓷、氧化铝、氮化铝等基板上沉积 0.05μm ~ 5μm 的精密金属薄膜,满足下一代热管理、光学与射频封装应用需求。
- 多种合金体系:Cr / Ni / NiCr / Au / Pt
- 图形精度 ±5μm,膜厚均匀性 ≤ 3%
- 支持 50.8mm × 50.8mm ~ 200mm × 200mm 大尺寸基板
- 全工艺流程符合 ROHS / REACH 要求

弘毅定制中心整合薄膜金属化、精密加工、定制封装与测试服务四大核心能力,覆盖从基板到成品的完整工艺链。工程团队与您并肩协作,将设计精准转化为可量产的产品。

采用真空溅射、蒸镀与光刻图形化工艺,在陶瓷、氧化铝、氮化铝等基板上沉积 0.05μm ~ 5μm 的精密金属薄膜,满足下一代热管理、光学与射频封装应用需求。

配备激光切割、超声波划片与 CNC 铣削设备,为陶瓷基板和金属外壳提供高精度的切割、钻孔、开槽与轮廓加工服务。

面向大功率、高频与高可靠性应用,提供 SMD、引线、法兰、模块等多种封装定制,覆盖从 IC 级到整机组装级的解决方案。

从来料检验到出货 QA 的全流程测试,涵盖电气性能、可靠性与环境耐受性,并出具 CNAS 认可报告。
从需求到交付,每个环节均配备专属工程师,全程透明、端到端可追溯。
工程师与您对齐技术细节——功率、阻值、封装、环境规格等关键参数。
基于您的应用,5 个工作日内提供初版方案、仿真分析与成本预估。
方案确认后,2–4 周内交付工程样品并附完整测试报告。
量产实施来料、过程与出货全检,按您的排期准时交付。
依据使用反馈持续优化工艺与品质,支持长期合作与技术升级。
快速了解弘毅定制中心的核心能力边界。超出该范围的需求?我们的工程团队也乐于进一步沟通。
| 阻值范围 | 0.001Ω ~ 100kΩ |
| 功率范围 | 5W ~ 100kW |
| 公差 | ±0.5% ~ ±10% |
| 封装 | SMD / Leaded / Flange / Modular |
| TCR | ±15 ~ ±200 ppm/°C |
| 工作温度 | -55°C ~ +250°C |
| 适用标准 | 商用 / 车规 / 军用 / 航空航天 |
| 交期 | 样品 2–4 周 · 量产 6–8 周 |
* 上述数值为典型范围,超出范围的非标需求可单独评估。
从沟通到交付,弘毅在每个环节都尽责担当。
专属工程师 1 对 1 服务,从选型到方案提供全程免费支持。
标准型号在合理数量内免费提供样品;定制项目按成本价计费。
可签署严格的保密协议,确保您的设计与方案信息得到妥善保密。
从原材料到成品出货,每一只电阻都拥有完整的数字化档案。
标准型号提供 12 个月质保,定制型号按合同约定执行。
支持 EXW / FOB / CIF / DAP 等标准国际贸易术语,覆盖全球。
告诉我们您的应用场景与关键参数,工程团队将为您提供专属解决方案。
标准样品在合理数量内免费提供(2–3 个工作日内寄出)。定制样品 2–4 周内交付。请通过右侧表单告知我们: